De clean revolutie in de verspaning: wat verandert er echt?
De noodzaak van clean verspanen voor de lithografie- en halfgeleiderindustrie hoeft in 2026 geen uitgebreide toelichting meer. Wie levert aan de ASML-keten weet wat Grade 2 inhoudt, kent de HIO-problematiek en begrijpt de consequenties van contaminatie op EUV-optiek.
Wat wél nieuw is, is de snelheid waarmee de reinheidseisen zich verbreden naar andere hightech sectoren. De ingrijpende gevolgen van de ASML-ZEISS harmonisatie van 2025, de toenemende druk op kostencompetitiviteit in de keten, en de paradigmaverandering in hoe de sector denkt over contaminatiebeheersing zijn de ontwikkelingen die er nu toe doen.
Waarom het cleaning-narratief kantelt: voorkomen in plaats van reinigen
De verspanende sector heeft decennialang geïnvesteerd in steeds geavanceerdere reinigingstechnologie. Dat is geen toeval en ook geen puur technische keuze, het is een logisch gevolg van een commerciële dynamiek.
De commerciële oorsprong van het cleaning-narratief
Koelsmeermiddelleveranciers hadden jarenlang geen oplossing om verontreiniging aan de bron te voorkomen. Hun producten waren geformuleerd op maximale smeerprestatie, niet op minimale residubelasting. Toen de reinheidseisen verscherpten, ontstond er een markt. Leveranciers van reinigingsapparatuur sprongen daar commercieel op in: steeds geavanceerdere reinigingsinstallaties, dampontvetting, ultrasonische reiniging, UV-bakeout.
Vervolgens committeerden koelsmeermiddelleveranciers zich aan deze benadering: koelsmeermiddel plus reinigingsinstallatie als gecertificeerd geheel. Commercieel logisch, maar technisch gezien een systeem dat gebouwd is om een probleem op te lossen dat het koelsmeermiddel zelf heeft veroorzaakt.
De paradigmaverandering
Circa 70% van de contaminatie op verspaande werkstukken is rechtstreeks terug te voeren op het koelsmeermiddel: minerale koolwaterstoffen, synthetische esters, additieven op basis van zwavel, fosfor en zink. Al deze bestanddelen worden op het werkstukoppervlak gedeponeerd. Vervolgens investeert de sector enorme middelen om ze er weer af te halen.
De logica van het nieuwe paradigma is eenvoudig: wat niet als contaminant wordt ingebracht, hoeft er niet uitgehaald te worden. De laatste inzichten vanuit ASML en de Clean Events van 2025 en 2026 ondersteunen deze denkwijze nadrukkelijk.
Het Sinner-model bevestigt de logica
Het Sinner-model — de vier reinigingsparameters chemie, mechaniek, temperatuur en tijd — verklaart waarom preventie loont: als het koelsmeermiddel minder contaminatie achterlaat, kunnen alle vier de parameters op een lager niveau opereren. Mildere chemie, minder mechanische kracht, lagere temperatuur en een kortere tijd oftewel: een goedkopere, snellere en minder belastende reinigingscyclus.
De verschuiving van productverantwoordelijkheid naar procesverantwoordelijkheid bij de toeleverancier, bevestigd door zowel ASML als ZEISS SMT, plaatst de koelsmeermiddelkeuze en procesbeheersing centraal en níet de reinigingsinstallatie.
Onze whitepapers
KSM heeft drie zeer interessante whitepapers over Clean Verspanen ontwikkeld. Deze zijn te downloaden via onderstaande button.
Voor meer informatie kunt u altijd contact opnemen.
Volg KSM op LinkedIn
Meteen op de hoogte zijn van o.a. nieuwe producten en/of oplossingen, KSM nieuws en interessante artikelen/video’s? Volg ons dan via LinkedIn en ontvang automatisch updates.
Wilt u ook maximaal produceren tegen minimale kosten?
KSM heeft haar jarenlange ervaring en kennis, topkwaliteit producten én veelzijdige service gebundeld in de RCL (Reliability Centered Lubrication) methode. Hierdoor wordt stapsgewijs, zowel op product- als procesniveau, de klant begeleid naar het maximaal produceren tegen minimale kosten door middel van optimaal (smeertechnisch) onderhoud.
Het resultaat: productiemaximalisatie, een verlaging van risico’s en tot wel 30% kostenbesparingen.
